Intel晶片技術取得突破,高介電質晶體管提升處理器速度
Intel今天宣布在晶片研發技術上取得突破,Intel表示已經完成High-K(高介電質)金屬門電路晶體管技術的研發,和目前CMOS晶體管相比,High-K 金屬門電路晶體管的容量提升60%,因此High-K 金屬門電路晶體管轉換速度更快,另外,High-K 金屬門電路晶體管功耗泄漏狀況比傳統的CMOS晶體管降低100倍,採用High-K 金屬門電路晶體管的處理器,在效能和發熱量方面比目前處理器將有大幅度提升。
http://news.mydrivers.com/pages/2003...1947_55419.htm
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